Plasus

PLASUS GmbH 是世界领先的光谱等离子体监测设备和过程控制系统制造商，适用于研发和工业生产中任何类型的等离子体工艺。自 1996 年以来，PLASUS 一直在开发、生产和销售创新和面向应用的等离子体监测设备和过程控制系统。应用范围从 PECVD 等离子体质量控制、反应溅射工艺中的主动工艺控制和蚀刻工艺中的终点检测到常压等离子体的工艺监测。